ВЛИЯНИЕ ПАРАМЕТРОВ ОСАЖДЕНИЯ НА ТОЛЩИНУ МОДИФИЦИРОВАННОГО СЛОЯ ПРИ ДИНАМИЧЕСКОМ АТОМНОМ ПЕРЕМЕШИВАНИИ Cu/Al-СТРУКТУР
Научная публикация
ВЛИЯНИЕ ПАРАМЕТРОВ ОСАЖДЕНИЯ НА ТОЛЩИНУ МОДИФИЦИРОВАННОГО  СЛОЯ ПРИ ДИНАМИЧЕСКОМ АТОМНОМ ПЕРЕМЕШИВАНИИ Cu/Al-СТРУКТУР
Автор(ы): В. В. Тульев, И. С. Ташлыков, Д. А. Литвинов
УДК: 539.1.06:539.23.234
Год издания: 2013
Дата загрузки: 18.06.2014
Загрузил(а): Левитская А. А.

Описание:
Методом резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия в сочетании с компьютерным моделированием определено, что при осаждении медного покрытия на алюминий методом ди- намического атомного перемешивания, в котором в качестве ассистирующих ионов использова- лись ионы Аr + с энергией 6 кэВ и интегральными потоками (0,7–1,6) ⋅ 1016 ион/cм2 , формируется медная пленка толщиной ∼10–15 нм. Установлено, что толщина сформированного покрытия зависит от параметра I / A (отношение числа I ассистирующих ионов к числу A атомов осаждаемого покрытия). При расчете толщины пленки необходимо учитывать помимо распыления ассистирующими ионами атомов покрытия, также распыление атомов подложки и атомов сопутствующих примесей.

Использование электронных материалов, размещенных на данном сайте, осуществляется на договорной основе. Разрешается использовать ресурсы в единичном экземпляре и исключительно в личных целях.



Физико-математические науки и информатика