ВЛИЯНИЕ ПАРАМЕТРОВ ИОННО-АССИСТИРУЕМОГО ОСАЖДЕНИЯ НА ФОРМИРОВАНИЕ Ме/Si-СТРУКТУР
Научная публикация
ВЛИЯНИЕ ПАРАМЕТРОВ ИОННО-АССИСТИРУЕМОГО ОСАЖДЕНИЯ НА ФОРМИРОВАНИЕ Ме/Si-СТРУКТУР
Автор(ы): О. Г. Бобрович, И. С. Ташлыков, В. В. Тульев
УДК: 539.1.06:539.23.234
Год издания: 2014
Дата загрузки: 04.03.2015
Загрузил(а): Левитская А. А.

Описание:
Методом РОР изучен элементный состав металлических (Co, Mo, W) покрытий, осажденных на (100)Si в условиях ионного (Co+ , Mo+ , W+ ) ассистирования. Толщина покрытия увеличивается с уменьшением ускоряющего напряжения для ассистирующих ионов Со+ , Мо+ , W+ от 20 до 7 кВ и зависит как от отношения плотности потока ионов Ji к плотности потока нанесенных атомов JА (Ji / JА), так и типа осаждаемого на Si металла. Установлено, что оптимальное отношение Ji / JА, при котором достигается наибольшая толщина Со- и Мо-покрытий составляет 0,06, а для W-покрытия – 0,04.

Использование электронных материалов, размещенных на данном сайте, осуществляется на договорной основе. Разрешается использовать ресурсы в единичном экземпляре и исключительно в личных целях.



Физико-математические науки и информатика