ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ И РАСПРЕДЕЛЕНИЕ КОМПОНЕНТОВ ПО ГЛУБИНЕ В СТРУКТУРАХ Ме/Ве, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ ИОННО-АССИСТИРУЕМОГО ОСАЖДЕНИЯ
Научная публикация
ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ И РАСПРЕДЕЛЕНИЕ КОМПОНЕНТОВ ПО ГЛУБИНЕ В СТРУКТУРАХ Ме/Ве, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ ИОННО-АССИСТИРУЕМОГО ОСАЖДЕНИЯ
Автор(ы): В. В. Тульев, И. С. Ташлыков
УДК: 539.1.06:539.23.234
Год издания: 2015
Дата загрузки: 03.02.2016
Загрузил(а): Левитская А. А.

Описание:
На подложки из бериллия наносились тонкие пленки на основе металлов (хром, титан, медь
и вольфрам) методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. Для реализации этого метода
использовался ионный источник, создающий плазму вакуумного электродугового разряда, в ко-
торой одновременно генерируются положительные ионы и нейтральная фракция из материала
электродов. Ионно-ассистируемое нанесение покрытий осуществлялось при ускоряющем
напряжении 20 кВ. Плотность ионного тока составляла ∼6−20 мкА/см2, а интегральный поток
облучающих ионов равен (0,4−1,2) ⋅ 1017 ион/см2. В рабочей камере в процессе осаждения по-
крытий поддерживался вакуум при давлении ~10−2 Па.
Элементный состав поверхности структур Ме/Ве, распределение элементов в покрытии изуча-
лись с применением метода резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия с Е0 = 2,0 МэВ
при углах рассеяния, влета и вылета 165, 0, 15° соответственно. Для послойного элементного ана-
лиза элементного состава на поверхности и в объеме использовалась программа RUMP компью-
терного моделирования экспериментальных спектров POP.
Исследования показали, что на бериллии формируется поверхностная структура толщиной
~50−60 нм. В состав покрытия входят атомы осажденного металла (0,5−3,3 ат. %), атомы технологи-
ческих примесей С (0,8−1,8 ат. %) и О (6,3−9,9 ат. %), атомы Ве из подложки. Установлено, что со-
держание кислорода в покрытии возрастает по сравнению с исходным образцом и достигает
наибольшего значения при осаждении покрытия на основе Cr и Ti. А содержание углерода в покры-
тии уменьшается и достигает своего наименьшего значения при осаждении покрытия на основе W.

Использование электронных материалов, размещенных на данном сайте, осуществляется на договорной основе. Разрешается использовать ресурсы в единичном экземпляре и исключительно в личных целях.



Физико-математические науки и информатика